03-6423-0130

【受付時間】 9:00～17:30
（土日祝日・年末年始及び当社休業日を除く）

在庫検索

RTP装置

  • 新規装置
RTP装置
工程 成膜
メーカー PREMTEK
型式 RTP-1200Aシリーズ

•　Premtek社のRTP装置は世界で500台以上の納入実績があり、その多くが化合物プロセスで使用されています。

•　サセプタを使用してのチャンバー内のプロセスを実施するためSiC/Silicon/Sapphire/GaAs/InPなど多くの化合物ウエハの処理が可能で

　 す。また、化合物ウエハの反りが原因での温度測定不良を防ぐために、サセプタ上にTPを配置しています。

•　上面ランプ、下面ランプ、サイドランプを複数のゾーンに分配し、各々のゾーンを個別にPIDコントロールすることにより高い面内均一

　 性を実現しています。

•　高性能多軸ロボットを搭載することにより位置決め、チャンバー、クーリング・ユニット間をスムーズに反動することが可能です。

•　装置内はクラス100で保たれており、オープンカセットの他にSMIFカセットの使用が可能です。

•　Windowsベースのソフトウエアは使いやすく、多くのプロセスレシピの登録や変更が容易で、ランタイム時のプロセスの状況を簡単に

　 把握することが可能です。

RTP装置

仕様

温度制御範囲 200～1250℃
温度制御方式 マルチPIDコントロール
面内温度均一性 ≦±3％（600℃以下）
  ≦±1.5％（600℃以上）
面内抵抗値均一性 ＜1.5％～2.5％（１σ）
真空 〇
ウエハ寸法 6～8
加熱ランプ タングステン・ハロゲンランプ
ウエハ搬送 フルオート（５軸ロボット）
プロセスガス系統数 4
ウエハ位置合わせ センタリング
  OCR、アライナー（Op）
昇温レート 25℃/秒（サセプタ使用時）
サセプタ SiCコーティングカーボン
装置外形寸法 D：1580  W：1500  H：1800mm

 

RTP装置
在庫検索一覧に戻る

お問い合わせCONTACT